8-palčna silicijeva rezina tipa P/N (100) 1-100Ω substrat za regeneracijo

8-palčna silicijeva rezina tipa P/N (100) 1-100Ω substrat za predelavo lutke Izpostavljena slika

Kratek opis:

Velika zaloga dvostransko poliranih rezin, vse rezine od 50 do 400 mm v premeru. Če vaše specifikacije ni na voljo v naši zalogi, smo vzpostavili dolgoročne odnose s številnimi dobavitelji, ki lahko izdelajo rezine po meri, da ustrezajo kateri koli edinstveni specifikaciji. Dvostransko polirane rezine se lahko uporabljajo za silicij, steklo in druge materiale, ki se pogosto uporabljajo v polprevodniški industriji.

Pošljite nam e-pošto

Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Predstavitev škatle z rezinami

8-palčna silicijeva rezina je pogosto uporabljen silicijev substrat in se pogosto uporablja v procesu izdelave integriranih vezij. Takšne silicijeve rezine se običajno uporabljajo za izdelavo različnih vrst integriranih vezij, vključno z mikroprocesorji, pomnilniškimi čipi, senzorji in drugimi elektronskimi napravami. 8-palčne silicijeve rezine se običajno uporabljajo za izdelavo čipov relativno velikih velikosti, njihove prednosti pa vključujejo večjo površino in možnost izdelave več čipov na eni sami silicijevi rezini, kar vodi do večje učinkovitosti proizvodnje. 8-palčna silicijeva rezina ima tudi dobre mehanske in kemijske lastnosti, zaradi česar je primerna za proizvodnjo integriranih vezij v velikem obsegu.

Značilnosti izdelka

8-palčna silicijeva rezina tipa P/N, polirana (25 kosov)

Orientacija: 200

Upornost: 0,1–40 ohm•cm (Lahko se razlikuje od serije do serije)

Debelina: 725+/-20um

Primer/Monitor/Testna stopnja

LASTNOSTI MATERIALOV

Parameter	Značilnost
Vrsta/dopant	P, bor N, fosfor N, antimon N, arzen
Usmeritve	<100>, <111> orientacije odrezov po specifikacijah stranke
Vsebnost kisika	10¹⁹ppmA Tolerance po meri po specifikaciji stranke
Vsebnost ogljika	< 0,6 ppmA

MEHANSKE LASTNOSTI

Parameter	Primarni	Monitor/Test A	Preizkus
Premer	200±0,2 mm	200 ± 0,2 mm	200 ± 0,5 mm
Debelina	725±20µm (standardno)	725±25µm (standardno) 450±25µm 625±25 µm 1000±25µm 1300±25µm 1500±25 µm	725±50µm (standardno)
TTV	< 5 µm	< 10 µm	< 15 µm
Lok	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Zavijanje	< 30 µm	< 30 µm	< 50 µm
Zaokroževanje robov	POLSTANDARDNO
Označevanje	Samo primarna pol-ravna, pol-standardna ravna Jeida ravna, zarezana

Parameter	Primarni	Monitor/Test A	Preizkus
Merila za sprednjo stran
Stanje površine	Kemično mehansko polirano	Kemično mehansko polirano	Kemično mehansko polirano
Hrapavost površine	< 2 Å	< 2 Å	< 2 Å
Kontaminacija Delci pri >0,3 µm	= 20	= 20	= 30
Meglica, Jame Pomarančna lupina	Nobena	Nobena	Nobena
Žaga, oznake Proge	Nobena	Nobena	Nobena
Merila za hrbtno stran
Razpoke, gube, sledi žaganja, madeži	Nobena	Nobena	Nobena
Stanje površine	Kavstično jedkano