Stroj za poliranje z ionskim žarkom za safir SiC Si

Kratek opis:

Stroj za oblikovanje in poliranje z ionskim žarkom temelji na principuionsko naprševanjeZnotraj visokovakuumske komore ionski vir ustvarja plazmo, ki se pospeši v visokoenergijski ionski žarek. Ta žarek bombardira površino optične komponente in odstranjuje material na atomski ravni, da doseže ultra natančno korekcijo in končno obdelavo površine.

Pošljite nam e-pošto

Značilnosti

Podroben diagram

Pregled izdelka stroja za poliranje z ionskim žarkom

Stroj za oblikovanje in poliranje z ionskim žarkom temelji na principu ionskega razprševanja. V visokovakuumski komori ionski vir ustvarja plazmo, ki se pospeši v visokoenergijski ionski žarek. Ta žarek bombardira površino optične komponente in odstranjuje material na atomski ravni, da doseže ultra natančno korekcijo in končno obdelavo površine.

Kot brezkontaktni postopek poliranje z ionskim žarkom odpravlja mehanske obremenitve in preprečuje poškodbe pod površino, zaradi česar je idealno za izdelavo visoko natančne optike, ki se uporablja v astronomiji, vesoljski industriji, polprevodnikih in naprednih raziskovalnih aplikacijah.

Načelo delovanja stroja za poliranje z ionskim žarkom

Generiranje ionov
Inertni plin (npr. argon) se vnese v vakuumsko komoro in ionizira z električnim praznjenjem, da tvori plazmo.

Pospešek in oblikovanje žarka
Ioni se pospešijo na nekaj sto ali tisoč elektronskih voltov (eV) in oblikujejo v stabilno, fokusirano žarkovno piko.

Odstranjevanje materiala
Ionski žarek fizično razprši atome s površine, ne da bi sprožil kemične reakcije.

Zaznavanje napak in načrtovanje poti
Odstopanja površinske slike se merijo z interferometrijo. Funkcije odstranjevanja se uporabljajo za določitev časov zadrževanja in ustvarjanje optimiziranih poti orodja.

Korekcija zaprte zanke
Iterativni cikli obdelave in meritev se nadaljujejo, dokler niso doseženi cilji natančnosti RMS/PV.

Ključne značilnosti stroja za poliranje z ionskim žarkom

Univerzalna združljivost s površinami– Obdeluje ravne, sferične, asferične in prosto oblikovane površine

Ultra stabilna hitrost odstranjevanja– Omogoča korekcijo številk v subnanometrskih mejah

Obdelava brez poškodb– Brez podpovršinskih napak ali strukturnih sprememb

Dosledna zmogljivost– Enako dobro deluje na materialih različnih trdot

Korekcija nizkih/srednjih frekvenc– Odpravlja napake brez ustvarjanja artefaktov v srednjih/visokih frekvencah

Nizke zahteve glede vzdrževanja– Dolgo neprekinjeno delovanje z minimalnim časom izpada

Glavne tehnične specifikacije stroja za poliranje z ionskim žarkom

Predmet	Specifikacija
Metoda obdelave	Ionsko naprševanje v okolju visokega vakuuma
Vrsta obdelave	Brezkontaktno oblikovanje in poliranje površin
Največja velikost obdelovanca	Φ4000 mm
Osi gibanja	3-osni / 5-osni
Stabilnost odstranitve	≥95 %
Površinska natančnost	PV < 10 nm; RMS ≤ 0,5 nm (tipično RMS < 1 nm; PV < 15 nm)
Zmožnost korekcije frekvence	Odstranjuje napake nizkih in srednjih frekvenc brez vnosa napak srednjih/visokih frekvenc
Neprekinjeno delovanje	3–5 tednov brez vzdrževanja vakuuma
Stroški vzdrževanja	Nizko

Zmogljivosti obdelave stroja za poliranje z ionskim žarkom

Podprte vrste površin

Preprosto: ravno, okroglo, prizmatično

Kompleksno: Simetrična/asimetrična asfera, zunajosna asfera, valjasta

Posebno: Ultratanka optika, lamelna optika, polkrogelna optika, konformna optika, fazne plošče, prosto oblikovane površine

Podprti materiali

Optično steklo: kremen, mikrokristalno, K9 itd.

Infrardeči materiali: silicij, germanij itd.

Kovine: aluminij, nerjaveče jeklo, titanova zlitina itd.

Kristali: YAG, monokristalni silicijev karbid itd.

Trdi/krhki materiali: silicijev karbid itd.

Kakovost površine / natančnost

PV < 10 nm

RMS ≤ 0,5 nm

Študije primerov obdelave stroja za poliranje z ionskim žarkom

Primer 1 – Standardno ravno ogledalo

Obdelovanec: ploščata kremenčeva plošča D630 mm

Rezultat: PV 46,4 nm; RMS 4,63 nm

Primer 2 – Refleksno ogledalo za rentgenske žarke

Obdelovanec: ploščata silikonska plošča 150 × 30 mm

Rezultat: PV 8,3 nm; RMS 0,379 nm; Naklon 0,13 µrad

Primer 3 – Zrcalo zunaj osi

Obdelovanec: Zunanjeosno brušeno ogledalo D326 mm

Rezultat: PV 35,9 nm; RMS 3,9 nm

Pogosta vprašanja o kremenčevih očalih

Pogosta vprašanja – Stroj za poliranje z ionskim žarkom

V1: Kaj je poliranje z ionskim žarkom?
A1:Poliranje z ionskim žarkom je brezkontaktni postopek, ki uporablja fokusiran žarek ionov (kot so ioni argona) za odstranjevanje materiala s površine obdelovanca. Ioni se pospešijo in usmerijo proti površini, kar povzroči odstranjevanje materiala na atomski ravni, kar ima za posledico ultra gladke površine. Ta postopek odpravlja mehanske obremenitve in poškodbe pod površino, zaradi česar je idealen za precizne optične komponente.

V2: Katere vrste površin lahko obdeluje stroj za poliranje z ionskim žarkom?
O2:TheStroj za poliranje z ionskim žarkomlahko obdeluje različne površine, vključno s preprostimi optičnimi komponentami, kot soploščate, krogle in prizme, kot tudi kompleksne geometrije, kot soasfere, zunajosne asfereinprosto oblikovane površineŠe posebej učinkovit je na materialih, kot so optično steklo, infrardeča optika, kovine in trdi/krhki materiali.

V3: S katerimi materiali lahko deluje stroj za poliranje z ionskim žarkom?
A3:TheStroj za poliranje z ionskim žarkomlahko polira široko paleto materialov, vključno z:

Optično stekloKremen, mikrokristalni, K9 itd.
Infrardeči materialiSilicij, germanij itd.
KovineAluminij, nerjaveče jeklo, titanova zlitina itd.
Kristalni materialiYAG, monokristalni silicijev karbid itd.
Drugi trdi/krhki materialiSilicijev karbid itd.

O nas

XKH je specializirano za visokotehnološki razvoj, proizvodnjo in prodajo posebnega optičnega stekla in novih kristalnih materialov. Naši izdelki so namenjeni optični elektroniki, potrošniški elektroniki in vojski. Ponujamo safirne optične komponente, pokrove za leče mobilnih telefonov, keramiko, LT, silicijev karbid SIC, kremen in polprevodniške kristalne rezine. Z strokovnim znanjem in najsodobnejšo opremo se odlikujemo v obdelavi nestandardnih izdelkov in si prizadevamo postati vodilno visokotehnološko podjetje na področju optoelektronskih materialov.