6-palčni GaN-on-Sapphire
150 mm 6-palčni GaN na epitaksialni rezini iz silicija/safirja/SiC epitaksialne rezine iz galijevega nitrida
6-palčna rezina s safirnim substratom je visokokakovosten polprevodniški material, sestavljen iz plasti galijevega nitrida (GaN), zraslih na safirnem substratu.Material ima odlične lastnosti elektronskega transporta in je idealen za izdelavo močnostnih in visokofrekvenčnih polprevodniških naprav.
Metoda izdelave: Postopek izdelave vključuje gojenje plasti GaN na safirnem substratu z uporabo naprednih tehnik, kot je kovinsko-organsko kemično naparjevanje (MOCVD) ali epitaksija z molekularnim žarkom (MBE).Postopek nanašanja se izvaja pod nadzorovanimi pogoji, da se zagotovi visoka kakovost kristalov in enakomeren film.
6-palčni GaN-on-Sapphire aplikacije: 6-palčni safirni substratni čipi se pogosto uporabljajo v mikrovalovnih komunikacijah, radarskih sistemih, brezžični tehnologiji in optoelektroniki.
Nekatere običajne aplikacije vključujejo
1. Rf ojačevalnik moči
2. Industrija LED razsvetljave
3. Komunikacijska oprema za brezžično omrežje
4. Elektronske naprave v okolju z visoko temperaturo
5. Optoelektronske naprave
Specifikacije izdelka
- Velikost: premer substrata je 6 palcev (približno 150 mm).
- Kakovost površine: površina je fino polirana za zagotavljanje odlične kakovosti ogledala.
- Debelina: Debelino plasti GaN je mogoče prilagoditi glede na posebne zahteve.
- Embalaža: Substrat je skrbno zapakiran z antistatičnimi materiali, da se preprečijo poškodbe med transportom.
- Pozicijski robovi: Podlaga ima posebne pozicionirne robove, ki olajšajo poravnavo in delovanje med pripravo naprave.
- Drugi parametri: Posebne parametre, kot so tankost, upornost in koncentracija dopinga, je mogoče prilagoditi glede na zahteve kupca.
S svojimi vrhunskimi lastnostmi materiala in raznolikimi aplikacijami so 6-palčne rezine s safirno podlago zanesljiva izbira za razvoj visoko zmogljivih polprevodniških naprav v različnih industrijah.
| Substrat | 6” 1 mm <111> p-tip Si | 6” 1 mm <111> p-tip Si |
| Epi ThickAvg | ~5um | ~7um |
| Epi ThickUnif | <2 % | <2 % |
| Priklon | +/-45um | +/-45um |
| Pokanje | <5 mm | <5 mm |
| Vertikalni BV | > 1000 V | > 1400 V |
| HEMT Al % | 25-35 % | 25-35 % |
| HEMT ThickAvg | 20-30nm | 20-30nm |
| Insitu SiN Cap | 5-60nm | 5-60nm |
| 2DEG konc. | ~1013cm-2 | ~1013cm-2 |
| Mobilnost | ~2000 cm2/Vs (<2 %) | ~2000 cm2/Vs (<2 %) |
| Rsh | <330 ohm/sq (<2%) | <330 ohm/sq (<2%) |
Podroben diagram
Kategorije izdelkov
-
50,8 mm 2-palčna GaN na safirni epi-plastni rezini
-
150mm 200mm 6inch 8inch GaN na Silicon Epi-lay...
-
200 mm 8-palčni GaN na safirnem Epi-sloju podrezin...
-
Silicij na izolacijskem substratu SOI rezina tri ...
-
4-palčni 6-palčni monokristalni film iz litijevega niobata...
-
50,8 mm/100 mm AlN šablona na NPSS/FSS AlN templ...