8-palčna 200 mm 4H-N SiC rezina prevodna lutka raziskovalnega razreda

Kratek opis:

Z razvojem prometnih, energetskih in industrijskih trgov povpraševanje po zanesljivi, visokozmogljivi močnostni elektroniki še naprej narašča. Da bi zadostili potrebam po izboljšani zmogljivosti polprevodnikov, proizvajalci naprav iščejo polprevodniške materiale s širokim pasovnim razmikom, kot je naš portfelj rezin silicijevega karbida (SiC) 4H n-tipa 4H SiC Prime Grade.


Podrobnosti o izdelku

Oznake izdelkov

Zaradi svojih edinstvenih fizikalnih in elektronskih lastnosti se 200 mm SiC rezina polprevodniškega materiala uporablja za izdelavo visokozmogljivih, visokotemperaturnih, sevalno odpornih in visokofrekvenčnih elektronskih naprav. Cena 8-palčnega SiC substrata postopoma pada, saj tehnologija postaja naprednejša in povpraševanje narašča. Nedavni tehnološki razvoj je privedel do proizvodnje 200 mm SiC rezin v proizvodnem obsegu. Glavne prednosti polprevodniških materialov SiC rezin v primerjavi z rezinami Si in GaAs: Električna poljska jakost 4H-SiC med plazovito prebojno reakcijo je za več kot velikostni razred višja od ustreznih vrednosti za Si in GaAs. To vodi do znatnega zmanjšanja upornosti vklopljenega stanja Ron. Nizka upornost vklopljenega stanja v kombinaciji z visoko gostoto toka in toplotno prevodnostjo omogoča uporabo zelo majhnih čipov za napajalne naprave. Visoka toplotna prevodnost SiC zmanjšuje toplotno upornost čipa. Elektronske lastnosti naprav na osnovi SiC rezin so zelo stabilne skozi čas in temperaturno stabilne, kar zagotavlja visoko zanesljivost izdelkov. Silicijev karbid je izjemno odporen na trdo sevanje, kar ne poslabša elektronskih lastnosti čipa. Visoka mejna delovna temperatura kristala (več kot 6000 °C) omogoča izdelavo zelo zanesljivih naprav za zahtevne obratovalne pogoje in posebne aplikacije. Trenutno lahko enakomerno in neprekinjeno dobavljamo majhne serije 200 mmSiC rezin ter imamo nekaj zaloge na zalogi.

Specifikacija

Številka Predmet Enota Produkcija Raziskave Lutka
1. Parametri
1.1 politip -- 4H 4H 4H
1.2 orientacija površine ° <11–20> 4±0,5 <11–20> 4±0,5 <11–20> 4±0,5
2. Električni parameter
2.1 dopant -- dušik n-tipa dušik n-tipa dušik n-tipa
2.2 upornost ohm ·cm 0,015~0,025 0,01~0,03 NA
3. Mehanski parameter
3.1 premer mm 200±0,2 200±0,2 200±0,2
3.2 debelina μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Orientacija zareze ° [1–100]±5 [1–100]±5 [1–100]±5
3.4 Globina zareze mm 1~1,5 1~1,5 1~1,5
3,5 LTV μm ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤5 (10 mm * 10 mm) ≤10 (10 mm * 10 mm)
3.6 TTV μm ≤10 ≤10 ≤15
3,7 Lok μm -25~25 -45~45 -65~65
3,8 Osnova μm ≤30 ≤50 ≤70
3,9 AFM nm Ra≤0,2 Ra≤0,2 Ra≤0,2
4. Struktura
4.1 gostota mikrocevk kos/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 vsebnost kovin atomov/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD kos/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 Mejne motnje osebnosti kos/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4,5 TED kos/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Pozitivna kakovost
5.1 spredaj -- Si Si Si
5.2 površinska obdelava -- Si-face CMP Si-face CMP Si-face CMP
5.3 delec kos/oblat ≤100 (velikost ≥0,3 μm) NA NA
5.4 praska kos/oblat ≤5, skupna dolžina ≤200 mm NA NA
5,5 Rob
odkruški/vdolbine/razpoke/madeži/kontaminacija
-- Nobena Nobena NA
5.6 Območja politipov -- Nobena Površina ≤10% Površina ≤30%
5,7 sprednja oznaka -- Nobena Nobena Nobena
6. Kakovost hrbta
6.1 zadnji zaključek -- MP s C-obrazom MP s C-obrazom MP s C-obrazom
6.2 praska mm NA NA NA
6.3 Rob hrbtnih napak
odrezki/vdolbine
-- Nobena Nobena NA
6.4 Hrapavost hrbta nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6,5 Označevanje hrbta -- Zarezo Zarezo Zarezo
7. Rob
7.1 rob -- Posnetek Posnetek Posnetek
8. Paket
8.1 embalaža -- Epi-ready z vakuumom
embalaža
Epi-ready z vakuumom
embalaža
Epi-ready z vakuumom
embalaža
8.2 embalaža -- Večrezinska
embalaža za kasete
Večrezinska
embalaža za kasete
Večrezinska
embalaža za kasete

Podroben diagram

8-palčni SiC03
8-palčni SiC4
8-palčni SiC5
8-palčni SiC6

  • Prejšnje:
  • Naprej:

  • Napišite svoje sporočilo tukaj in nam ga pošljite